三亚苯基-2-硼酸结构式
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常用名 | 三亚苯基-2-硼酸 | 英文名 | Triphenylen-2-ylboronic acid |
|---|---|---|---|---|
| CAS号 | 654664-63-8 | 分子量 | 272.106 | |
| 密度 | 1.3±0.1 g/cm3 | 沸点 | 565.5±33.0 °C at 760 mmHg | |
| 分子式 | C18H13BO2 | 熔点 | N/A | |
| MSDS | N/A | 闪点 | 295.8±25.4 °C |
| 中文名 | 2-三苯烯基硼酸 |
|---|---|
| 英文名 | Triphenylen-2-ylboronic acid |
| 中文别名 | 三亚苯基-2-硼酸 | 苯并菲-2-硼酸 | 三亚苯-2-基硼酸 |
| 英文别名 | 更多 |
| 密度 | 1.3±0.1 g/cm3 |
|---|---|
| 沸点 | 565.5±33.0 °C at 760 mmHg |
| 分子式 | C18H13BO2 |
| 分子量 | 272.106 |
| 闪点 | 295.8±25.4 °C |
| 精确质量 | 272.100861 |
| PSA | 40.46000 |
| LogP | 5.28 |
| InChIKey | PXFBSZZEOWJJNL-UHFFFAOYSA-N |
| SMILES | OB(O)c1ccc2c3ccccc3c3ccccc3c2c1 |
| 蒸汽压 | 0.0±1.6 mmHg at 25°C |
| 折射率 | 1.762 |
| 储存条件 | 2-8°C |
| 危害码 (欧洲) | Xi |
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~56%
三亚苯基-2-硼酸 654664-63-8 |
| 文献:ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.; AHN, Hee Choon; LEE, Su Hyun; YANG, Soo Jin; SHIN, Hyo Nim; MOON, Doo-hyeon; KIM, Young Gil; LEE, Hyo Jung; CHO, Young Jun; KWON, Hyuck Joo; LEE, Kyung Joo; KIM, Bong Ok Patent: WO2012/39561 A1, 2012 ; Location in patent: Page/Page column 29; 30 ; |
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~%
三亚苯基-2-硼酸 654664-63-8 |
| 文献:GRACEL DISPLAY INC. Patent: US2011/54228 A1, 2011 ; Location in patent: Page/Page column 8 ; |
| 三亚苯基-2-硼酸上游产品 2 | |
|---|---|
| 三亚苯基-2-硼酸下游产品 0 | |
| Boronic acid, B-2-triphenylenyl- |
| 2-Triphenylenylboronic acid |
| triphenylen-2-ylboronic acid |