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四(二甲胺基)鉿

四(二甲胺基)鉿名称

[ CAS 号 ]:
19782-68-4

[ 中文名 ]:
四(二甲胺基)铪(IV)

[ 英文名 ]:
Tetrakis(dimethylamido)hafnium

[英文别名 ]:

MFCD01862473

四(二甲胺基)鉿物理化学性质

[ 密度 ]:
1.098 g/mL at 25 °C

[ 沸点 ]:
6.1ºC at 760 mmHg

[ 熔点 ]:
26-29ºC(lit.)

[ 分子式 ]:
C₈H₂₄HfN₄

[ 分子量 ]:
354.79300

[ 闪点 ]:
109 °F

[ 精确质量 ]:
356.14700

[ PSA ]:
12.96000

[ LogP ]:
0.04920

[ 外观性状 ]:
crystal | colorless to pale yellow

[ 储存条件 ]:
室温，干燥

四(二甲胺基)鉿MSDS

详细MSDS(安全技术说明书)

四(二甲胺基)鉿安全信息

[ 符号 ]:

GHS02, GHS05

[ 信号词 ]:
Danger

[ 危害声明 ]:
H228-H261-H314

[ 补充危害声明 ]:
Reacts violently with water.

[ 警示性声明 ]:
P210-P231 + P232-P280-P305 + P351 + P338-P370 + P378-P402 + P404

[ 个人防护装备 ]:
Eyeshields;Faceshields;full-face particle respirator type N100 (US);Gloves;respirator cartridge type N100 (US);type P1 (EN143) respirator filter;type P3 (EN 143) respirator cartridges

[ 危害码 (欧洲) ]:
F: Flammable;C: Corrosive;

[ 风险声明 (欧洲) ]:
R11

[ 安全声明 (欧洲) ]:
6-26-36/37/39-43-45

[ 危险品运输编码 ]:
UN 3396 4

[ WGK德国 ]:
3

四(二甲胺基)鉿文献

Appl. Phys. Lett. 91 , 193503, (2007)

Surface morphology and crystallinity control in the atomic layer deposition (ALD) of hafnium and zirconium oxide thin films Hausmann DM, Gordon RG

J. Cryst. Growth 249 , 251-261, (2003)

The Savannah ALD System - An Excellent Tool for Atomic Layer Deposition Monsma D, Becker J

Material Matters 1(3) , 5, (2006)

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