7782-40-3

• 常用中文名：单晶金刚石微粉
• 常用英文名：Nanodiamond
• CAS号：7782-40-3
• 分子式：CH₄
• 分子量：16.04250
• 发布时间：2016-05-16 02:39:45
• 更新时间：2024-01-02 13:20:39

• 用于金属、塑料、玻璃等材料表面生成金刚石膜。如半导体及半导体器件热沉电阻、电绝缘层。
  

名称

• 中文名: 单晶金刚石微粉
• 英文名: diamond
• 英文别名: EINECS 231-953-2; Diamond; MFCD00211867

物化性质

• 分子式: CH₄
• 分子量: 16.04250
• 精确质量: 16.03130
• LogP: 0.63610
• 储存条件:

  产品应贮存放在阴凉、通风、干燥、清洁、无化学药品腐蚀气氛的库房内。

• 稳定性:

  金刚石晶体膜是一种人工合成的新型功能材料，它由金刚石微晶体构成，具有高硬度、低摩擦、高热导率（为铜的５倍）、低膨胀系数、良好抗热冲击性能、良好抗腐蚀性、极高电绝缘强度、宽波段高透过率和高电子折射率等多项复合性能。

  本品无毒。

• 计算化学:

  1、 疏水参数计算参考值（XlogP）：-1.1

  2、 氢键供体数量：0

  3、 氢键受体数量：2

  4、 可旋转化学键数量：0

  5、 互变异构体数量：

  6、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：34.1

  7、 重原子数量：2

  8、 表面电荷：0

  9、 复杂度：0

  10、 同位素原子数量：0

  11、 确定原子立构中心数量：0

  12、 不确定原子立构中心数量：0

  13、 确定化学键立构中心数量：0

  14、 不确定化学键立构中心数量：0

  15、 共价键单元数量：1

• 更多:

  1. 性状：粉末

  2. 密度（g/mLat 25°C）：3.5

  3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

  4. 熔点（ºC）：未确定

  5. 沸点（ºC,常压）：未确定

  6. 沸点（ºC,0.1mmHg）：未确定

  7. 折射率（n20/D）：未确定

  8. 闪点（ºC）：未确定

  9. 比旋光度（º）：未确定

  10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定

  11. 蒸气压（mmHg,20ºC）：未确定

  12. 饱和蒸气压（kPa,-164ºC）：未确定

  13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定

  14. 临界温度（ºC）：未确定

  15. 临界压力（MPa）：未确定

  16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

  17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定

  18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定

  19. 溶解性：未确定

安全

• 个人防护装备: Eyeshields;Gloves;type N95 (US);type P1 (EN143) respirator filter
• 危险品运输编码: NONH for all modes of transport

制备

制备金刚石薄膜常用的方法是气相沉积法，该方法可分以下３种类型。

（１）热化学气相沉积（ＴＣＶＤ）法　在高温下使含碳气相组分发生热分解即形成金刚石薄膜。这一方法在早期的制备过程中是比较成功的方法，目前采用很多的热丝法（ＥＦＣＶＤ）以及对于沉积速率有着独特优越性的热化学焰法均属于此类。
（２）物理化学气相沉积法　用物理化学方法促进ＣＶＤ过程，例如等离子增强ＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ或ＰＡＣＶＤ）、微波等离子体ＣＶＤ（ＭＷＣＶＤ）、射频等离子体ＣＶＤ（ＲＦＰＥＣＶＤ）和直流等离子体ＣＶＤ（ＤＣＰＥＣＶＤ）及电子增强ＣＶＤ（ＥＡＣＶＤ）等。
（３）物理气相沉积法　即用物理方法（蒸发、溅射、离子束等）直接从碳源获取碳原子或碳离子，将含碳气体转变为气态活性碳原子，定向沉积在物体表面并沉积生成一层致密、均匀、光滑的碳碳原子键结构的固态晶体膜。这类工艺的关键技术是利用高能离子在基材表面的微区内形成７５０００℃和压强１２×１０９Ｐａ的热尖峰，其持续时间为１０－２１ｓ，从而促进金刚石膜的形成。沉积工艺需在高能态、高真空条件下，严格控制电磁场能量，精确掌握含碳化合物的原材料配比和浓度，以及反应沉积速率。