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硅烷

硅烷用途

1.电子工业用作氮化硅、外延材料等的摻杂源。半导体超纯硅原料,是半导体工业中单晶硅、多晶硅外延片以及二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等化学气相沉积工艺的硅源,并广泛用于太阳能电池、硅复印机鼓、光电传感器、光导纤维及特种玻璃等的生产研制。 2. 用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学气相沉积、非晶硅薄膜淀积。

硅烷名称

[ CAS 号 ]:
7803-62-5

[ 中文名 ]:
硅烷

[ 英文名 ]:
Silicon tetrahydride

[英文别名 ]:

硅烷物理化学性质

[ 密度 ]:
1.114

[ 沸点 ]:
-112ºC

[ 熔点 ]:
-185ºC

[ 分子式 ]:
H4Si

[ 分子量 ]:
32.11730

[ 精确质量 ]:
32.00820

[ 外观性状 ]:
无色

[ 蒸汽密度 ]:
1.1 (vs air)

[ 储存条件 ]:
库房通风低温干燥,与氧化剂、卤素分开存放

硅烷MSDS

硅烷毒性和生态

CHEMICAL IDENTIFICATION

RTECS NUMBER :
VV1400000
CHEMICAL NAME :
Silane
CAS REGISTRY NUMBER :
7803-62-5
LAST UPDATED :
199712
DATA ITEMS CITED :
18
MOLECULAR FORMULA :
H4-Si
MOLECULAR WEIGHT :
32.13
WISWESSER LINE NOTATION :
SI H4

HEALTH HAZARD DATA

ACUTE TOXICITY DATA

TYPE OF TEST :
LC50 - Lethal concentration, 50 percent kill
ROUTE OF EXPOSURE :
Inhalation
SPECIES OBSERVED :
Rodent - rat
DOSE/DURATION :
9600 ppm/4H
TOXIC EFFECTS :
Details of toxic effects not reported other than lethal dose value
TYPE OF TEST :
LCLo - Lowest published lethal concentration
ROUTE OF EXPOSURE :
Inhalation
SPECIES OBSERVED :
Rodent - mouse
DOSE/DURATION :
9600 ppm/4H
TOXIC EFFECTS :
Details of toxic effects not reported other than lethal dose value

MUTATION DATA

TYPE OF TEST :
Mutation in microorganisms
TEST SYSTEM :
Bacteria - Salmonella typhimurium
REFERENCE :
MUREAV Mutation Research. (Elsevier Science Pub. B.V., POB 211, 1000 AE Amsterdam, Netherlands) V.1- 1964- Volume(issue)/page/year: 307,335,1994 *** REVIEWS *** ACGIH TLV-TWA 6.6 mg/m3 (5 ppm) DTLVS* The Threshold Limit Values (TLVs) and Biological Exposure Indices (BEIs) booklet issues by American Conference of Governmental Industrial Hygienists (ACGIH), Cincinnati, OH, 1996 Volume(issue)/page/year: TLV/BEI,1997 *** OCCUPATIONAL EXPOSURE LIMITS *** OEL-AUSTRALIA:TWA 5 ppm (7 mg/m3) JAN 1993 OEL-BELGIUM:TWA 5 ppm (6.6 mg/m3) JAN 1993 OEL-DENMARK:TWA 0.5 ppm (0.7 mg/m3) JAN 1993 OEL-FINLAND:TWA 0.5 ppm (0.7 mg/m3);STEL 1.5 ppm (2.0 mg/m3) JAN 1993 OEL-FRANCE:TWA 5 ppm (7 mg/m3) JAN 1993 OEL-THE NETHERLANDS:TWA 0.5 ppm (0.7 mg/m3) JAN 1993 OEL-SWITZERLAND:TWA 0.5 ppm (0.7 mg/m3) JAN 1993 OEL-UNITED KINGDOM:TWA 0.5 ppm (0.7 mg/m3);STEL 1 ppm JAN 1993 OEL IN BULGARIA, COLOMBIA, JORDAN, KOREA check ACGIH TLV OEL IN NEW ZEALAND, SINGAPORE, VIETNAM check ACGIH TLV *** NIOSH STANDARDS DEVELOPMENT AND SURVEILLANCE DATA *** NIOSH RECOMMENDED EXPOSURE LEVEL (REL) : NIOSH REL TO SILICON TETRAHYDRIDE-air:10H TWA 5 ppm REFERENCE : NIOSH* National Institute for Occupational Safety and Health, U.S. Dept. of Health, Education, and Welfare, Reports and Memoranda. Volume(issue)/page/year: DHHS #92-100,1992 NIOSH OCCUPATIONAL EXPOSURE SURVEY DATA : NOHS - National Occupational Hazard Survey (1974) NOHS Hazard Code - 83770 No. of Facilities: 1732 (estimated) No. of Industries: 44 No. of Occupations: 41 No. of Employees: 33190 (estimated) NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - 83770 No. of Facilities: 510 (estimated) No. of Industries: 11 No. of Occupations: 17 No. of Employees: 25354 (estimated) No. of Female Employees: 2999 (estimated)

硅烷安全信息

[ 危害码 (欧洲) ]:
F+:Highlyflammable;Xn:Harmful;

[ 风险声明 (欧洲) ]:
R12;R17;R20

[ 安全声明 (欧洲) ]:
S9-S16-S33-S36/37/39

[ 危险品运输编码 ]:
UN 2203

[ WGK德国 ]:
1

[ RTECS号 ]:
VV1400000

[ 危险类别 ]:
2.1

[ 海关编码 ]:
3910000000

硅烷制备

1.如图组装装置。在反应瓶和加料漏斗里分别装入1.14g LiAlH4于70mL乙醚中的溶液和2.30mL SiCl4于50mL乙醚中的图硅烷的制备装置溶液。在整个合成过程中,把冷浴和指型冷却管分别保持在-15~-20℃和-78.5℃。将仪器抽空后,乙醚开始回流,此时必须要注意避免过多的骤沸。然后,将靠近反应装置的U形管接收器冷却到-95℃(用甲苯冻膏),其余四个接收器冷却到-196℃(液氮)。在搅拌下,用15min将SiCl4+乙醚溶液加入到LiAlH4悬浮液中。为了避免乙醚剧烈回流,使甲硅烷连续地以中等速度分出。调节反应器和真空管路之间的玻璃活塞便可以容易地控制反应速度。将SiCl4加完后,继续搅拌15~20min,以保证反应完全。在此期间,将反应器和真空系统切断以免乙醚逃逸过多。当甲硅烷从真空系统排净之后,将空气通入反应器,拆开真空系统。

图XIV-7 硅烷的制备装置

从液氮冷却的接收器中取出分离物(甲硅烷及痕量乙醚),集中到一起,将-95℃接收器接收的物料放掉(主要为乙醚)。为了除去痕量的乙醚,最好在-130℃的接收器通过5次(用戊烷冷却),而收集在-196℃接收器中,纯甲硅烷的收率为SiCl4的80%。杂质有氯化氢,此氯化氢,以-160℃接收器来代替-130℃接收器,几乎可以完全除去。最后残余的痕量氯化氢,用水或湿的1,2-二甲氧基乙烷处理之后,通过-130℃接收器可以除去。

图Lely电炉

A—石墨圆筒;B—绝热区;

C—石墨棒;D—石墨发热体;

E—单晶成长坩埚;F—测温

用观察缝;G—测温窗

硅烷海关

[ 海关编码 ]: 3910000000

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