Abstract [(C 6 H 5) 2 B] 2 NH entsteht nicht nur durch SiN-Spaltung von Hexamethyldisilazan mit (C 6 H 5) 2 BBr, sondern auch in einem Umordnungsprozeß aus (C 6 H 5) 2 B [BOND] NH [BOND] Si (CH 3) 3 oder (C 6 H 5) 2 B [BOND] NH [BOND] B (CH 3) 2. Im Gegensatz dazu ist (C 6 H 5) 2 B [BOND] NCH 3 [BOND] Si (CH 3) 3 stabil.(C 6 H 5) 2 B [BOND] NCH 3 [BOND] B (CH 3) 2 zersetzt sich bei≈ 50 C unter Phenylgruppenwanderung in ...
