Chemische Berichte

Basisches Verhalten von Epoxiden in Gegenwart von Halogenid??Ionen, IV: gem??Difluorcyclopropane aus Chlordifluormethan und Alkanolat??Ionen in geringer …

M Kamel, W Kimpenhaus, J Buddrus

文献索引：Kamel,M. et al. Chemische Berichte, 1976 , vol. 109, p. 2351 - 2369

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摘要

Abstract gem-Difluorcyclopropane entstehen in hohen Ausbeuten aus Chlordifluormethan, Alkanolat und reaktiven Alkenen (Tab. 1), sofern die Konzentration an Alkanolat sehr klein ist. Die Alkanolat-lonen in der erforderlichen geringen Konzentration enthält eine Lösung von Halogenid-Ionen in Epoxiden (Gi.(3)). Gebräuchliche Epoxide sind (Chlormethyl) oxiran und Oxiran (Äthylenoxid). Der Umsatz wird durch zunehmende Chlorid-Ionen- ...